Please use this identifier to cite or link to this item: https://hdl.handle.net/10316/113427
Title: TECNOLOGIAS DIGITAIS E CAPITAL CULTURAL – ASSOCIAÇÃO ENTRE O NÍVEL DE ESCOLARIDADE DOS PAIS E UTILIZAÇÃO PELOS ALUNOS DE TECNOLOGIAS DIGITAIS
Authors: Vilhena, Carla 
Valadas, Sandra T.
Fernandes, Preciosa
Figueiredo, Carla
Keywords: Plataformas e Tecnologias Digitais; Nível de Escolaridade dos pais; Alunos do Ensino Básico e Secundário; Portugal
Issue Date: 2023
metadata.degois.publication.title: Revista Conhecimento Online
metadata.degois.publication.volume: 1
Abstract: O artigo apresenta resultados de um estudo que teve como objetivos conhecer a utilização nas atividades escolares de plataformas e tecnologias digitais por alunos portugueses, as dificuldades que identificam na sua utilização e compreender o efeito do nível de escolaridade do pai e da mãe nestas duas dimensões. Foi utilizado um inquérito por questionário a que responderam 2037 alunos do Ensino Básico e Secundário (6o, 9o e 12o anos de escolaridade), que frequentavam escolas localizadas em diferentes regiões de Portugal. Os resultados indicam que o nível de escolaridade da mãe está associado à utilização de plataformas mais diversificadas, a uma utilização mais frequente e à enunciação, pelos alunos, de maiores dificuldades em contexto pandémico.
The article presents results from a study whose purposes were to develop knowledge on the use of digital platforms and technologies in school activities by Portuguese students and the difficulties they identify when using them. We also aimed to understand the effect of their parents’ educational attainment upon these two dimensions. 2037 Basic and Secondary Education (Years 6, 9, and 12) students, who attended schools in different Portuguese regions, answered a questionnaire. The results indicate that the mother’s level of schooling is associated to the use of more diversified platforms, to a more frequent use, and to students stating more difficulties in context of the pandemic.
URI: https://hdl.handle.net/10316/113427
ISSN: 2176-8501
DOI: 10.25112/rco.v1.2956
Rights: openAccess
Appears in Collections:I&D CEIS20 - Artigos em Revistas Internacionais

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